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滿足剛性玻璃基底表面的薄膜類太陽(yáng)能電池刻蝕，采用四臺(tái)設(shè)備分別對(duì)應(yīng)不同薄膜電池不同功能層刻蝕需求。P1采用納秒紅外刻蝕TCO，P2采用皮秒紫外或綠光刻蝕功能層，P3采用皮秒紫外或綠光刻蝕背電極，P4采用高功率納秒紅外做清邊。
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基本功能
滿足剛性玻璃基底表面的薄膜類太陽(yáng)能電池刻蝕，采用四臺(tái)設(shè)備分別對(duì)應(yīng)不同薄膜電池不同功能層刻蝕需求。P1采用納秒紅外刻蝕TCO，P2采用皮秒紫外或綠光刻蝕功能層，P3采用皮秒紫外或綠光刻蝕背電極，P4采用高功率納秒紅外做清邊。
特別注明：柔性基底中試線元祿光電開(kāi)發(fā)中，可電話詳細(xì)咨詢聯(lián)系！
產(chǎn)能高：可配備多路光束加工（可配單路），單機(jī)產(chǎn)能可達(dá)100MW;
精度高：采用高精度CCD定位，定位精度±15um；
可靠度高：采用特有結(jié)構(gòu)，設(shè)備穩(wěn)定性高；
適應(yīng)性強(qiáng)：每一臺(tái)設(shè)備既可離線（前后需加一段接駁臺(tái)），又可在線使用，適應(yīng)不同客戶的需求；
性能參數(shù)
參數(shù) | P1紅外激光刻蝕機(jī) | P2皮秒激光刻蝕機(jī) | P3皮秒激光刻蝕機(jī) | P4紅外激光刻蝕機(jī) | |||
激光波長(zhǎng) | 1064/532/355nm | 355/532 nm | 355/532nm | 1064nm | |||
功率 | 30W MOPA | 15-60W | 15-60W | 100W MOPA | |||
加工頭數(shù) | 單頭/6頭/12頭 | 單頭/6頭/12頭 | 單頭/6頭/12頭 | 單頭/雙頭 | |||
電池片尺寸 | 300*400/500*500/600*600/600*900/600*1200mm | ||||||
電機(jī)定位精度 | ±5um | ||||||
電機(jī)最高速度 | 1m/s | ||||||
最小刻蝕線寬 | 30um | 30um | 30um | 1-20mm | |||
最小公差 | ±5um | ±5um | ±5um | ±100um | |||
最小線間距 | 30um | 30um | 30um | / | |||
熱效應(yīng)區(qū) | 5um | 5um | 5um | 50um | |||
CCD定位精度 | ±10um | ±10um | ±10um | ±10um | |||
直線度 | ±20μm | ±20μm | ±20μm | ±20μm | |||
除塵率 | ≥99% | ≥99% | ≥99% | ≥99% | |||
輸送帶速度 | 20m/min（速度可調(diào)，會(huì)對(duì)節(jié)拍造成影響） | ||||||
進(jìn)出料高度 | 900±20mm | ||||||
P3金電極激光刻蝕
P1 TCO FTO激光刻蝕
P1 TCO ITO激光刻蝕
鈣鈦礦刻蝕
P2鈣鈦礦激光刻蝕2
P2氧化鋯氧化鈦刻蝕
P2氧化錫鈣鈦礦刻蝕
p3碳粉激光刻蝕
P3銅電極激光刻蝕
P3銅電極激光刻蝕2
P3銀電極激光刻蝕
TCO刻蝕
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